純凈的硅(Si)是從自然界中的石英礦石(主要成分二氧化硅)中提取出來(lái)的,分幾步反應(yīng):
1.二氧化硅和炭粉在高溫條件下反應(yīng),生成粗硅:
SiO2+2C=Si(粗)+2CO
2.粗硅和氯氣在高溫條件下反應(yīng)生成氯化硅:
Si(粗)+2Cl2=SiCl4
3.氯化硅和氫氣在高溫條件下反應(yīng)得到純凈硅:
SiCl4+2H2=Si(純)+4HCl
以上是硅的工業(yè)制法,在實(shí)驗(yàn)室中可以用以下方法制得較純的硅:
1.將細(xì)砂粉(SiO2)和鎂粉混合加熱,制得粗硅:
SiO2+2Mg=2MgO+Si(粗)
2.這些粗硅中往往含有鎂,氧化鎂和硅化鎂,這些雜質(zhì)可以用鹽酸除去:
Mg+2HCl=MgCl2+H2
MgO+2HCl=MgCl2+H2O
Mg2Si+4HCl=2MgCl2+SiH4
3.過(guò)濾,濾渣即為純硅
一)國(guó)內(nèi)外多晶硅生產(chǎn)的主要工藝技術(shù)
1,改良西門(mén)子法—閉環(huán)式三氯氫硅氫還原法
改良西門(mén)子法是用氯和氫合成氯化氫(或外購(gòu)氯化氫),氯化氫和工業(yè)硅粉在一定的溫度下合成三氯氫硅,然后對(duì)三氯氫硅進(jìn)行分離精餾提純,提純后的三氯氫硅在氫還原爐內(nèi)進(jìn)行CVD反應(yīng)生產(chǎn)高純多晶硅。國(guó)內(nèi)外現(xiàn)有的多晶硅廠絕大部分采用此法生產(chǎn)電子級(jí)與太陽(yáng)能級(jí)多晶硅。
2,硅烷法—硅烷熱分解法硅烷(SiH4)是以四氯化硅氫化法、硅合金分解法、氫化物還原法、硅的直接氫化法等方法制取。然后將制得的硅烷氣提純后在熱分解爐生產(chǎn)純度較高的棒狀多晶硅。以前只有日本小松掌握此技術(shù),由于發(fā)生過(guò)嚴(yán)重的爆炸事故后,沒(méi)有繼續(xù)擴(kuò)大生產(chǎn)。但美國(guó)Asimi和SGS公司仍采用硅烷氣熱分解生產(chǎn)純度較高的電子級(jí)多晶硅產(chǎn)品。
1)冶金法生產(chǎn)太陽(yáng)能級(jí)多晶硅據(jù)資料報(bào)導(dǎo)[1]日本川崎制鐵公司采用冶金法制得的多晶硅已在世界上大的太陽(yáng)能電池廠(SHARP公司)應(yīng)用,現(xiàn)已形成800噸/年的生產(chǎn)能力,全量供給SHARP公司。主要工藝是:選擇純度較好的工業(yè)硅(即冶金硅)進(jìn)行水平區(qū)熔單向凝固成硅錠,去除硅錠中金屬雜質(zhì)聚集的部分和外表部分后,進(jìn)行粗粉碎與清洗,在等離子體融解爐中去除硼雜質(zhì),再進(jìn)行第二次水平區(qū)熔單向凝固成硅錠,去除第二次區(qū)熔硅錠中金屬雜質(zhì)聚集的部分和外表部分,經(jīng)粗粉碎與清洗后,在電子束融解爐中去除磷和碳雜質(zhì),直接生成太陽(yáng)能級(jí)多晶硅。
3)重?fù)焦鑿U料提純法生產(chǎn)太陽(yáng)能級(jí)多晶硅
據(jù)美國(guó)Crystal Systems資料報(bào)導(dǎo)[1],美國(guó)通過(guò)對(duì)重?fù)絾尉Ч枭a(chǎn)過(guò)程中產(chǎn)生的硅廢料提純后,可以用作太陽(yáng)能電池生產(chǎn)用的多晶硅,終成本價(jià)可望控制在20美元/Kg以下。